重慶立式低溫恒溫槽CYDC-0530低溫水浴鍋

 重慶立式低溫恒溫槽CYDC-0530低溫水浴鍋一、低溫恒溫槽的用途：
    低溫恒溫槽適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門。例如生化實驗或者樣品測試的恒溫，溫度計與鉑電阻的計量校準(zhǔn)，配套發(fā)酵罐、旋光儀、電泳儀、光度計、色譜柱、旋轉(zhuǎn)粘度計、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、流變儀等。
二、低溫恒溫槽的工作流程：
    低溫恒溫槽通過制冷器件進行制冷，而加熱器用來提供平衡熱量從而實驗溫度控制。
三、低溫恒溫槽的特點：
  控溫系統(tǒng)采用PID控溫技術(shù)，精度可達0.05℃。
  采用優(yōu)質(zhì)耐腐蝕不銹鋼內(nèi)膽，容積從7.5L到30L可選。
  采用風(fēng)冷式全封閉壓縮機制冷，制冷速度快、噪音低，讓您的實驗室靜悄悄。
  有內(nèi)、外循環(huán)，外循環(huán)時可將槽內(nèi)恒溫液體外引，可建立第二恒溫場擴展使用范圍。
  一鍵開啟液晶大屏幕顯示，設(shè)置溫度與顯示溫度清晰顯示，操作簡便。
  制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流保護，控制系統(tǒng)具有超溫鳴叫報警，可設(shè)定上下限超溫報警溫度，超溫時可自動切斷負載。
  可選配RS232或RS485通訊接口，實現(xiàn)與PC機或PLC機等上位機的數(shù)據(jù)傳輸，進行遠距離控制。
  可選配內(nèi)槽可升降支架，實現(xiàn)特殊實驗樣品的高度調(diào)節(jié)

 可控硅，是可控硅整流元件的簡稱，是一種具有三個PN結(jié)的四層結(jié)構(gòu)的大功率半導(dǎo)體器件，亦稱為晶閘管。具有體積小、結(jié)構(gòu)相對簡單、功能強等特點，是比較常用的半導(dǎo)體器件之一。該器件被廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備和電子產(chǎn)品中，多用來作可控整流、逆變、變頻、調(diào)壓、無觸點開關(guān)等。

可控硅的結(jié)構(gòu)和性能
不管可控硅的外形如何，它們的管芯都是由P型硅和N型硅組成的四層P1N1P2N2結(jié)構(gòu).它有三個PN結(jié)（J1、J2、J3），從J1結(jié)構(gòu)的P1層引出陽A，從N2層引出陰級K，從P2層引出控制G，所以它是一種四層三端的半導(dǎo)體器件.

它是由四層半導(dǎo)體材料組成的，有三個PN結(jié)，對外有三個電：層P型半導(dǎo)體引出的電叫陽A，D三層P型半導(dǎo)體引出的電叫控制G，D四層N型半導(dǎo)體引出的電叫陰K。從晶閘管的電路符號可以看到，它和二管一樣是一種單方向?qū)щ姷钠骷?，關(guān)鍵是多了一個控制G，這就使它具有與二管不同的工作特性。

以硅單晶為基本材料的P1N1P2N2四層三端器件,起始于1957年，因為它的特性類似于真空閘流管，所以上通稱為硅晶體閘流管，簡稱晶閘管T，又因為晶閘管初的在靜止整流方面，所以又被稱之為硅可控整流元件，簡稱為可控硅SCR.

在性能上，可控硅不僅具有單向?qū)щ娦裕疫€具有比硅整流元件（俗稱"死硅")更為可貴的可控性.它只有導(dǎo)通和關(guān)斷兩種狀態(tài).

可控硅能以毫安級電流控制大功率的機電設(shè)備，如果超過此功率，因元件開關(guān)損耗顯著增加，允許通過的平均電流相降低，此時，標(biāo)稱電流應(yīng)降級使用.

可控硅的優(yōu)點很多，例如：以小功率控制大功率，功率放大倍數(shù)高達幾十萬倍；反應(yīng)快，在微秒級內(nèi)開通、關(guān)斷；無觸點運行，無火花、無噪音；效率高，成本低等等.

可控硅的弱點：靜態(tài)及動態(tài)的過載能力較差；容易受干擾而誤導(dǎo)通

 重慶立式低溫恒溫槽CYDC-0530低溫水浴鍋

技術(shù)參數(shù)：